热压氮化硅-成型工艺-无机非金属陶瓷材料

热压氮化硅-成型工艺-无机非金属陶瓷材料

<P>热压氮化硅-概述</P>
<P>本公司引进高科技氮化硅陶瓷制造技术的基础上按照国家标准生产的热压氮化硅-，以高纯氮化硅粉为原料，利用干压及等静压成型技术（得到理想的热压氮化硅-坯体密度），经1600℃以上高温烧结获得高密度、高强度氮化硅陶瓷制品。可广泛应用于机械、冶金、化工、航空、半导体等工业上作为作某些设备或产品的零部件，取得了很好的预期效果。近年来，随着制造工艺和测试分析技术的发展，热压氮化硅-等氮化硅陶瓷制品的可靠性不断提高，因此应用面在不断扩大。</P>
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<P>&nbsp;热压氮化硅-特点</P>
<P>&nbsp;1、工艺优良：</P>
<P>热压氮化硅-采用高纯氮化硅粉为原料，利用干压及等静压成型技术，经高温烧结具有高强度，硬度，致密度。干压成型的分类
根据压头和模腔运动方式的不同，干压成型可以为以下几种：
单向加压，即模腔和下压头固定，上压头移动；
双向加压，即模腔固定，上压头和下压头移动；
可动压模，下压头固定，模腔和上压头移动，即压头和模腔的运动是同步的，使用液压控制时，在某一设定压力下压头停止移动。
而双面加压又分为双面同时加压和双面先后加压，其中双面先后加压是指两面的压力先后加上，由于先后分别加压，压力传递比较，有利于气体排出，作用时间较长，故其坯体密度比前面两种均匀。</P>
<P>&nbsp;2、性能稳定：热压氮化硅-具有的耐磨，耐高温，耐腐蚀性2热压烧结(HPS)? 是将氮化硅粉末和少量添加剂(如MgO、Al2O3、MgF2、Fe2O3?等)，在1916MPa以上的压强和1600以上的温度进行热压成型烧结。英国和美国的一些公司采用的热压烧结氮化硅陶瓷，其强度高达981MPa以上。烧结时添加物和物相组成对产品性能有很大的影响。由于严格控制晶界相的组成，以及在氮化硅陶瓷烧结后进行适当的热处理，所以可以获得即使温度高达1300时强度(可达490MPa以上)也不会明显下降的氮化硅系陶瓷材料，而且抗蠕变性可提高三个数量级。若对氮化硅?陶瓷材料进行1400———1500高温预氧化处理，则在陶瓷材料表面上形成Si2N2O相，它能显著提高氮化硅陶瓷的耐氧化性和高温强度。热压烧结法生产的氮化硅陶瓷的机械性能比反应烧结的氮化硅要，强度高、密度大。但制造成本高、烧结设备复杂，由于烧结体收缩大，使产品的尺寸精度受到一定的限制，难以制造复杂零件，只能制造形状简单的零件制品，工件的机械加工也较困难。?
3常压烧结法(PLS)? 在提高烧结氮气氛压力方面，利用氮化硅分解温度升高(通常在N2=1atm气压下，从1800开始分解)的性质，在1700———1800温度范围内进行常压烧结后，再在1800———2000温度范围内进行气压烧结。该法目的在于采用气压能促进氮化硅陶瓷组织致密化，从而提高陶瓷的强度.所得产品的性能比热压烧结略低。这种方法的缺点与热压烧结相似。? 4重烧结(PS)? 将反应烧结的氮化硅烧结坯在助烧剂存在的情况下,置于氮化硅粉末中,在高温下重烧结,得到致密的氮化硅制品。助烧剂可在硅粉球磨时引入,也可用浸渍的方法在反应烧结后浸渗加入由于反应烧结过程中可预加工,在重烧结过程中的收缩仅有6%,10%,所以可制备形状复杂,性能优良的部件.。</P>
<P>3、应用广泛：热压氮化硅-可广泛应用于机械、冶金、化工、航空、半导体等工业上作为作某些设备或产品的零部件。 </P>
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<P>我们的热压氮化硅-产品优势</P>
<P>质量稳定：实行全过程质量监控，细致入微，检测！</P>
<P>价格合理：内部成本控制，减少了开支，有利于客户！</P>
<P>交货快捷：生产流水线，充足的备货，缩短了交货期！</P>
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<P>热压氮化硅-选型手册：</P>
<P>面对市场上各式各样的陶瓷材料，比如氧化铝陶瓷，氧化锆陶瓷，氮化硅陶瓷，碳化硅陶瓷，氮化铝陶瓷，氮化硼陶瓷等工业陶瓷。很多客户会感到忙绕。目前市面上的陶瓷产品选型手册和选型标准一般是按照材料的性能和应用来分类。</P>
<P>氮化硅的物理性质
常压下Si 3N 4于1870℃左右分解。氮化硅的热膨胀系数低,约为Al 203的1/3。它的导热系数大,为18.4W /(m·K),同时具有高强度,因此其抗热震性十分优良,仅次于石英和微晶玻璃,热疲劳性能也很好。室温电阻率为1.1×10Ω·cm ,900℃时为5.7×106Ω·cm ,介电常数为8.3,介电损耗为0.001—0.1。
2.4氮化硅的化学性质
Si 3N 4有很好化学稳定性,除不耐氢氟酸和浓NaOH 侵蚀外,可耐所有的无机酸和某些碱溶液、熔融碱和盐的腐蚀。氮化硅正常铸造温度下对很多金属是稳定的,不受浸润或腐蚀。氮化硅抗氧化性好,抗氧化温度可高达1400℃,在1400℃以下的干燥氧化气氛中保持稳定,其使用温度一般可高达1300℃,而在中性或还原气氛中甚至可成功的应用到1800℃。在200℃的潮湿空气或800℃干燥空气中,氮化硅与氧反应形成Si02的表面保护膜,阻碍Si 3N 4的继续氧化。</P>
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<P>热压氮化硅-订购注意事项 </P>
<P>1、此产品不支持网上订购，由于氮化硅陶瓷产品大多数属于非标定制件，如您需要订购热压氮化硅-产品请随时致电联系我们，我们一定会尽心尽力为您提供的服务。电话： </P>
<P>2、①需要提供图纸或者样品。②需要告知订购数量③需要告知应用场合及对产品的技术要求④使用温度⑤使用介质⑥其他要注意的事项。</P>
<P>3、如有特殊要求时请在订购产品时注明。 </P>
<P>4、当使用的场合非常重要或者环境比较复杂时，请尽量提供设计图纸。</P>
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<P>热压氮化硅-使用注意事项</P>
<P>氮化硅陶瓷属于硬脆材料，在材料的加工使用过程中应注意： 研磨和抛光
在工业生产的某些领域,仅靠磨削是达不到工程陶瓷件表面光洁度要求的,通常要采用研磨和抛光。另一方面,工程陶瓷材料韧性较小,脆性较大,其强度很容易受表面裂痕的影响。但加工工艺往往造成加工表面材料有许多微裂纹,裂纹往往引起应力集中,使裂纹末端应力更大。当该处应力超过裂纹扩展临界值时,裂纹便扩展,引起工件的破坏。加工表面愈粗糙,表面裂纹愈大,愈易产生应力集中,工件强度愈低。因此,研磨不仅是为了达到一定的粗糙度和高的形状精度,而且也是为了提高工件的强度。研磨工程陶瓷用的磨料主要是B4C和金刚石粉。在研磨加工中,研磨参数选择合理时可以达到1Lm/m的形状精度和Ra<0.3Lm的粗糙度。抛光是采用软质抛光器和细粉磨粒以较低的压力作用于工件的一种精加工过程。软质抛光器以弹塑性方式保持着磨粒对加工工件的切深非常浅,通过产生微小的压痕进行加工。近几年抛光技术又有了新的发展,如超声抛光、电加工复合抛光等。 </P>